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　　近日，中微半导体设备（上海）股份有限公司推出自主研发的12英寸低压化学气相沉积(LPCVD)设备Preforma Uniflex CW。该设备可灵活配置多达五个双反应台反应腔（十个反应台），每个反应腔可以同时加工两片晶圆，实现更高的生产效率。